高纯铜中气体等杂质含量的分析

  • 高纯铜中
  • 气体等杂质含量的分析
  •  
          高纯铜中对气体等杂质元素含量的要求越来越严格。
          在集成电路如靶材、粒子加速器等超高真空工艺环节中，若其表面杂质含量和气体成分超量，会发生放电反应；在靶材沉积、加速器组件中，气体脱附较大时，性能会下降，甚至可能会发生高场击穿。
          因此，高纯铜中氧、氢等杂质含量一定需要严格监控。

 

  • ꁸ 回到顶部
  • ꂅ 88888888
  • ꁗ QQ客服
  • ꀥ 微信二维码